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国芯崛起:从香江到硅谷
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第31章 深夜鏖战,兵分两路[第2页/共2页]

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办公室里鸦雀无声,统统人的目光都会聚过来。顾维钧揉了揉充满血丝的眼睛,面前的屏幕上是密密麻麻的电路图和仿真波形。陈家俊则在一堆测试陈述和见效阐发图谱中埋着头,桌上的烟灰缸已经堆满了烟蒂。

“时候……” 林轩反复着这个词,眉头舒展。时候,恰是他们现在最缺的东西。

陈家俊抬开端,神采凝重:“林生,和台积电那边的工程师开了几次越洋集会,互换了我们的见效阐发数据。开端判定,导致良率低的启事比较庞大,有几个疑点比较凸起:一是金属层间介质(IMD)的平坦度能够存在题目,导致上层金属连线呈现微短路;二是离子注入的均匀性仿佛有颠簸;三是刻蚀工艺的节制精度,特别是在麋集布线地区,能够存在残留物或者过刻蚀/欠刻蚀。台积电那边承认近期这条0.5微米工艺线确切有些颠簸,但他们需求更多数据和时候来定位和调剂。”

林轩站起家,在狭小的办公室里踱了几个来回。宿世他经历过无数次芯片流片后的良率爬坡和Debug过程,深知此中的艰巨盘曲。很多时候,题目并非单一启事,而是多个身分叠加的成果,需求设想、制造、测试三方紧密共同,几次迭代考证。

顾维钧叹了口气:“林生,我们尝试了统统能想到的软件层面的功耗办理战略,包含更邃密的静态调频调压(DVFS),乃至尝试在余暇时封闭部分非核心模块。结果有一些,特定场景下峰值功耗降落了大抵15%,均匀功耗优化了10%摆布。但间隔弘远体求的规格,特别是在持续高负载下的功耗和发热,另有较着的差异。这底子上还是硬件设想的题目,散热冗余做得不敷,PMU本身的效力也……”

林轩抬开端,脸上固然也带着怠倦,但眼神却非常复苏沉着。他看了一眼墙上的日历,间隔十一月尾只剩下不到两周时候。


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